در تحولی که میتواند نقشه جهانی صنعت نیمهرساناها را دگرگون کند، شرکت SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corporation) چین موفق به تولید تراشه ۵ نانومتری بدون استفاده از فناوری لیتوگرافی فرابنفش اکستریم (EUV) شده است. این دستاورد نهتنها پیشرفتی فنی، بلکه نشانهای از مقاومت چین در برابر محدودیتهای جهانی در حوزه نیمهرساناها است.
فناوری EUV که بهطور انحصاری توسط شرکت هلندی ASML تولید میشود، تحت محدودیتهای صادرات غربی قرار دارد. درعوض، SMIC از تجهیزات قدیمیتر DUV (Deep Ultraviolet) بههمراه تکنیک پیشرفتهای به نام Self-Aligned Quadruple Patterning (SAQP) استفاده کرده است. این فرآیند پیچیده امکان الگوبرداری فوقالعاده دقیق را فراهم میکند که معمولاً تنها با استفاده از EUV ممکن است.
این خبر که توسط تحلیلگر نیمهرسانا، ویلیام هو، در پلتفرم X منتشر شده، نشاندهنده یک اتفاق مهم هم از لحاظ فناوری و هم از منظر ژئوپلیتیک است. تاکنون تصور میشد که پیشرفت در فرآیندهای کوچکتر از ۷ نانومتر بدون استفاده از سیستمهای EUV غیرممکن است. بااینحال، SMIC با استفاده از لایههای متعدد الگوبرداری و خوردگی با DUV، دقت موردنیاز برای تولید تراشههای پیشرفته را شبیهسازی کرده است.
این رویکرد نسبت به استفاده از EUV زمانبر، هزینهبر و مستعد خطاهای بیشتری است. بااینحال، نتیجه نهایی عملی است: یک تراشه کلاس ۵ نانومتر.
این پیشرفت نشان میدهد که چین در شرایط محدودیتهای جهانی، تصمیممند به پیشرفت در صنعت نیمهرساناها است. استفاده از تکنولوژیهای موجود مانند DUV و SAQP نهتنها نشاندهنده نوآوری تحت فشار است، بلکه این دستاورد میتواند الگویی برای سایر کشورها باشد که بهدنبال کاهش وابستگی به فناوریهای غربی هستند.
سخن پایانی
موفقیت SMIC در تولید تراشههای ۵ نانومتری بدون استفاده از EUV نهتنها یک دستاورد علمی است، بلکه گامی بزرگ در جهت خودکفایی چین در صنعت نیمهرساناها محسوب میشود. این رویداد نشان میدهد که حتی در شرایط محدودیتهای سختگیرانه، نوآوری و تعهد میتوانند موانع را از پیش رو بردارند. اگرچه این فرآیند هنوز چالشهایی دارد، اما نتایج آن نشان میدهد که چین میتواند نقش مهمی در تغییر موازنه قدرت جهانی در صنعت فناوری ایفا کند.
نظر شما درباره موفقیت چین در تولید تراشه ۵ نانومتری آن هم بدون استفاده از فناوریهای نوین چیست؟