شرکت بین‌المللی ساخت نیمه‌رسانا یا Semiconductor Manufacturing International Corporation که به اختصار با عبارت SMIC شناخته می‌شود، یک تراشه‌ساز بزرگ چینی است. یک رسانه ژاپنی به تازگی گزارش داده که تحقیق‌وتوسعه تراشه‌ساز چینی SMIC روی تراشه ۳ نانومتری تحت مدیریت مدیر سابق TSMC و سامسونگ در حال انجام است.
گزارش شده است که SMIC نسل دوم فناوری فرآیند ۷ نانومتری خود را توسعه داده و می‌تواند برای تولید پردازنده گوشی‌های هوشمند استفاده شود. همچنین ادعا می‌شود که آنها در حال پیگیری تحقیقات بر روی فناوری‌های 5 نانومتری و 3 نانومتری هستند.
این تحقیق توسط تیم تحقیق‌وتوسعه اختصاصی شرکت انجام می‌شود. این تیم توسط لیانگ مونگ سونگ، مدیریت می‌شود که سابقا در TSMC و سامسونگ سمت مدیر اجرایی داشته است. او یک دانشمند مشهور در زمینه نیمه‌هادی‌ها محسوب می‌شود.
این خبر از آن جهت لازم است که تحریم‌های ایالات متحده نتوانسته پیشرفت SMC را در زمینه توسعه تراشه‌های پیشرفته فراتر از فرآیند 7 نانومتری را به طور کامل متوقف کند. البته این تحریم‌ها به طور جدی سرعت شرکت را کند کرده، اما وقتی بتواند بدون نیاز به امریکا به فناوری‌های مهم دست پیدا کند، بازی را برده است.
تراشه ساز چینی SMIC در حال حاضر پنجمین سازنده قراردادی بزرگ در زمینه تولید تراشه است. در حالی که تحریم‌های امریکا اجازه دسترسی به ابزار لیتوگرافی فرابنفش شدید (EUV) شرکت ASML را به چینی‌ها نمی‌دهد، آنها برای گره 7 نانومتری نسل دوم خود، تنها به لیتوگرافی عمیق فرابنفش (DUV) متکی بود.
دستگاه‌های لیتوگرافی ASML Twinscan NXT:2000i در حال حاضر بهترین ابزارهای موجود برای SMIC هستند. آنها می‌توانند تا رزولوشن تولید 38 نانومتری را حکاکی کنند. ای سطح دقت برای با استفاده از الگوی دوگانه برای گره 7 نانومتری کافی است. بد نیست بدانید که رزولوشن تولید 30-32 نانومتری در گره 5 نانومتر و 21-24 نانومتری در گره 3 نانومتری استفاده می‌شود.
چند گزینه دیگری برای دستیابی به فرآیندهای کمتر از گره ۷ نانومتری موجود است که می تواند نیاز به استفاده از EUV را حذف کند. این یک فرآیند پیچیده محسوب می‌شود و زمان چرخه ساخت را طولانی می کند. این می‌تواند بر عملکرد و همچنین فرسودگی تجهیزات ساخت تأثیر بگذارد.
پیامدهای هزینه تولید با این روش نیز بسیار بالا است. SMIC از الگوهای سه‌گانه، چهارگانه یا گاهی اوقات پنج‌گانه برای دستیابی به فرآیندهای پیشرفته‌تر استفاده می‌کند. طراحی فرآیند ساخت گره ۳ نانومتری اگر فقط با دستگاه‌های DUV انجام شود، نقطه عطف مهمی برای SMIC است. البته باید دید عملکرد این تراشه در محصولات چگونه خواهد بود.
نظر شما چیست؟ فکر می‌کنید چینی‌ها می‌توانند بر تحریم امریکایی‌ها غلبه کنند؟
