سامسونگ ظاهراً قصد دارد فناوری High-NA EUV را در تولید انبوه تراشههای ۱ نانومتری خود بهکار بگیرد. این شرکت تجاریسازی فناوری نسل جدید لیتوگرافی EUV را برای حوالی سال ۲۰۳۰ هدفگذاری کرده و برخلاف برنامه اولیه، فعلاً قصد ندارد آن را در فرایندهای ۲ یا ۱٫۴ نانومتری استفاده کند.
ادامه نوشته