لیپ‌بو تن (Lip-Bu Tan)، مدیرعامل اینتل، معتقد است چین باوجود تحریم‌های آمریکا و محدودیت دسترسی به تجهیزات پیشرفته ساخت نیمه‌رسانا، فاصله چندانی با ایالات متحده در صنعت تولید تراشه ندارد. او در گفت‌وگو با Nikkei Asia تأکید کرد که توانایی شرکت‌ها در پاسخ‌گویی به نیاز مشتریان، نقش تعیین‌کننده‌ای در رقابت جهانی صنعت تراشه خواهد داشت.
🔷 مدیرعامل اینتل معتقد است چین در فناوری تولید تراشه فاصله زیادی با آمریکا ندارد.
🔷 تحریم‌های آمریکا همچنان دسترسی شرکت‌های چینی به تجهیزات پیشرفته EUV را محدود کرده‌اند.
🔷 یک شرکت چینی نمونه اولیه منبع نور EUV با توان ۱۵ وات و قابلیت فعالیت ۱۰۰ ساعته را معرفی کرده است.
🔷 تجهیزات پیشرفته ASML از منابع نور قدرتمندتر ۱۵۰ تا ۲۵۰ واتی استفاده می‌کنند.
🔷 اینتل درحال بازسازی ساختار خود و توسعه کسب‌وکار تولید قراردادی تراشه برای رقابت با TSMC است.
لیپ‌بو تن، مدیرعامل اینتل، در مصاحبه‌ای با Nikkei Asia درباره وضعیت رقابت چین و آمریکا در صنعت نیمه‌رسانا و تأثیر محدودیت‌های صادراتی ایالات متحده صحبت کرد. آمریکا با اعمال تحریم‌های فناوری، دسترسی شرکت‌های چینی به دستگاه‌های پیشرفته لیتوگرافی فرابنفش شدید (EUV) را محدود کرده است. این تجهیزات نقش مهمی در تولید تراشه‌های پیشرفته با ابعاد کوچک‌تر و بهره‌وری انرژی بالاتر دارند.
زمانی که از مدیرعامل اینتل پرسیدند آیا چین می‌تواند طی پنج تا ده سال آینده به آمریکا در فناوری پیشرفته ساخت تراشه برسد، او پاسخ داد:
«فکر می‌کنم چین همین حالا هم فاصله چندانی ندارد.»
تن همچنین توضیح داد که شرکت‌های آمریکایی و چینی هرکدام نقاط قوت و ضعف متفاوتی دارند و درنهایت، شرکت‌هایی موفق خواهند شد که محصولات مناسب‌تری برای مشتریان و کسب‌وکارها ارائه دهند.
سرعت پیشرفت صنعت تراشه چین به یکی از موضوعات مهم در رقابت فناوری میان پکن و واشنگتن تبدیل شده است. ایلان ماسک پیش‌ازاین پیش‌بینی کرده بود که چین ممکن است طی دو تا سه سال آینده بر محدودیت‌های فعلی تولید تراشه غلبه کند. درمقابل، مدیر بخش نیمه‌رسانای شرکت زایس (Zeiss) معتقد است چین در پیشرفته‌ترین فناوری لیتوگرافی EUV حدود ۱۵ سال عقب‌تر است.
اظهارات مدیرعامل اینتل دیدگاه متفاوتی را مطرح می‌کند؛ هرچند او جزئیات فنی مشخصی برای مقایسه توانایی تولید تراشه در چین و آمریکا ارائه نکرد.
نمونه اولیه منبع نور EUV مدل Flint ساخت شرکت چینی Landau
اظهارات مدیرعامل اینتل مدت کوتاهی پس از معرفی نمونه اولیه یک منبع نور EUV ساخت چین مطرح شده است. شرکت چینی Landau نمونه اولیه این فناوری را با توان خروجی ۱۵ وات و قابلیت فعالیت به‌مدت ۱۰۰ ساعت معرفی کرده است. منبع نور یکی از بخش‌های کلیدی دستگاه‌های لیتوگرافی EUV محسوب می‌شود و توسعه آن می‌تواند به چین برای ساخت تجهیزات بومی تولید تراشه کمک کند.
بااین‌حال، نمونه اولیه چینی هنوز ازنظر توان خروجی با تجهیزات پیشرفته شرکت هلندی ASML فاصله قابل‌توجهی دارد.
شرکت ASML پیش‌ازاین دستگاه NXE:3400B را به‌عنوان یکی از نخستین سیستم‌های EUV مناسب تولید انبوه تراشه عرضه کرده بود. این دستگاه از منبع نور ۱۵۰ واتی بهره می‌برد و امکان ارتقای توان آن به ۲۵۰ وات وجود داشت.
توان ۲۵۰ واتی در تجهیزات ASML اهمیت زیادی دارد؛ زیرا دستیابی به این سطح توان به دستگاه‌های EUV کمک کرد ازنظر هزینه و مقیاس تولید با سیستم‌های لیتوگرافی DUV immersion رقابت کنند.
دستگاه لیتوگرافی ساخت شرکت هلندی ASML برای تولید تراشه‌های نیمه‌رسانا
اگرچه توان ۱۵ واتی نمونه چینی بسیار کمتر از تجهیزات تجاری ASML است، مدت‌زمان فعالیت ۱۰۰ ساعته آن می‌تواند دستاورد فنی مهمی محسوب شود. تولید نور EUV فرایند بسیار پیچیده‌ای دارد. در این فناوری، سیستم با استفاده از لیزر دی‌اکسیدکربن، قطرات بسیار کوچک قلع را با فرکانسی در حدود ۱۰۰ هزار بار در ثانیه هدف قرار می‌دهد. حفظ پایداری چنین فرایندی حتی برای ۲۴ ساعت نیز چالش‌برانگیز است.
پیچیدگی این فناوری به‌اندازه‌ای بوده که ASML در گذشته تعریف زمان فعالیت اسکنرهای EUV را تغییر داده و زمان عملکرد منبع نور را از محاسبه آن جدا کرده است. بنابراین، اگر شرکت چینی بتواند عملکرد پایدار نمونه اولیه خود را در شرایط عملی تأیید کند، این دستاورد می‌تواند گامی مهم در مسیر توسعه تجهیزات بومی لیتوگرافی باشد.
مدیرعامل اینتل در این مصاحبه علاوه‌بر رقابت فناوری چین و آمریکا، درباره برنامه بازسازی ساختار شرکت خود نیز صحبت کرد. اینتل درحال تلاش برای توسعه کسب‌وکار تولید قراردادی تراشه (Intel Foundry) است و می‌خواهد در بلندمدت به رقیبی جدی برای شرکت تایوانی TSMC تبدیل شود.
درحال‌حاضر TSMC بزرگ‌ترین تولیدکننده قراردادی تراشه در جهان محسوب می‌شود.
لیپ‌بو تن معتقد است کسب‌وکار تولید قراردادی می‌تواند به یکی از موتورهای رشد آینده اینتل تبدیل شود، اما تأکید دارد که موفقیت در این مسیر به زمان و اجرای دقیق برنامه‌ها نیاز دارد.
اظهارات مدیرعامل اینتل درباره پیشرفت تولید تراشه در چین نشان می‌دهد که ارزیابی فاصله فناوری این کشور با آمریکا همچنان محل اختلاف است. چین باوجود محدودیت دسترسی به تجهیزات EUV، توسعه فناوری‌های بومی را دنبال می‌کند. معرفی منبع نور ۱۵ واتی با قابلیت فعالیت ۱۰۰ ساعته نیز نمونه‌ای از این تلاش‌ها است؛ هرچند دستیابی به تولید انبوه تراشه‌های پیشرفته همچنان به پیشرفت‌های بیشتری نیاز دارد.
به‌نظر شما، چین می‌تواند طی پنج سال آینده وابستگی خود به تجهیزات پیشرفته ASML را کاهش دهد؟ دیدگاه خود را در بخش نظرات با ما به اشتراک بگذارید.
