حساب کاربری ندارید؟ ثبت نام کنید

هواوی Kirin 9030 یک تراشه ۵ نانومتری است: پیشرفتی بزرگ برای صنعت چین

نوشته

14 ساعت قبل | بدون دیدگاه | پردازشگرها، هواوی

هواوی با همکاری شرکت تراشه‌سازی چینی SMIC، به پیشرفت قابل‌توجهی دست یافته است. گزارش‌های جدید تأیید می‌کنند که تراشه هواوی Kirin 9030 بر پایه فناوری ساخت ۵ نانومتری تولید شده است. این خبر نشان‌دهنده توانایی این غول فناوری چینی در بازگشت به میدان رقابت چیپست‌های پیشرفته، علی‌رغم محدودیت‌های بین‌المللی است.

خلاصه و نکات کلیدی

  • 🔹تایید ساختار ۵ نانومتری تراشه Kirin 9030 بر اساس تحلیل‌های Techinsights.
  • 🔹استفاده از فرآیند ساخت پیشرفته N+3 کمپانی SMIC.
  • 🔹دستیابی به این فناوری با استفاده از لیتوگرافی DUV و بدون دسترسی به دستگاه‌های پیشرفته EUV.
  • 🔹افزایش ۴۲ درصدی عملکرد در سری میت ۸۰ نسبت به نسل قبل (میت ۷۰ پرو پلاس).
  • 🔹افزایش هزینه‌های تولید به دلیل پیچیدگی‌های فنی و استفاده از روش‌های الگوسازی چندگانه.

جهش عملکرد در سری میت ۸۰

هواوی ماه گذشته از سری جدید پرچمداران خود، یعنی Mate 80 مجهز به تراشه‌های Kirin 9030 و Kirin 9030 Pro رونمایی کرد. اگرچه هواوی طبق روال معمولِ دوران تحریم، اشاره‌ای به لیتوگرافی دقیق تراشه نکرد، اما آمارهای عملکرد خیره‌کننده بودند.

طبق ادعای هواوی، مدل Mate 80 Pro Max حدود ۴۲ درصد بهبود عملکرد کلی را ارائه می‌دهد. این جهش چشمگیر در مقایسه با میت ۷۰ پرو پلاس (مجهز به Kirin 9020)، سوالات زیادی را در ذهن کارشناسان ایجاد کرد: آیا این قدرت تنها حاصل بهینه‌سازی نرم‌افزاری است یا سخت‌افزار تغییر کرده است؟

کالبدشکافی فنی: واقعیت ۵ نانومتری

اخیراً موسسه تحقیقاتی معتبر Techinsights با انجام تحلیل‌های ساختاری و ابعادی روی تراشه Kirin 9030 Pro، پرده از این راز برداشت.

یافته‌ها نشان می‌دهد که هواوی Kirin 9030 از نود پردازشی N+3 شرکت SMIC استفاده می‌کند. این یک ارتقای نسلی بزرگ نسبت به فناوری N+2 (کلاس ۷ نانومتری) است که در تراشه‌های قبلی مانند Kirin 9020 استفاده می‌شد.

چگونه چینی‌ها بدون تجهیزات پیشرفته به ۵ نانومتر رسیدند؟

نکته کلیدی و چالش‌برانگیز ماجرا اینجاست که شرکت SMIC به دلیل تحریم‌ها، به دستگاه‌های لیتوگرافی فرابنفش (EUV) شرکت ASML دسترسی ندارد. پس چطور تراشه ۵ نانومتری ساخته‌اند؟

پاسخ در استفاده خلاقانه اما پرهزینه از فناوری قدیمی‌تر نهفته است:

ویژگی لیتوگرافی DUV (استفاده شده در Kirin 9030) لیتوگرافی EUV (استاندارد جهانی)
طول موج ۱۹۳ نانومتر (بلندتر و کم‌دقت‌تر) ۱۳.۵ نانومتر (بسیار دقیق)
روش ساخت نیازمند الگوسازی چندگانه الگوسازی مستقیم و ساده‌تر
هزینه تولید بسیار بالا (به دلیل پیچیدگی مراحل) بهینه‌تر برای سایز ۵ نانومتر
بازدهی چالش‌برانگیز در مقیاس انبوه بالا

چالش‌های پیش رو و آینده

استفاده از لیتوگرافی DUV برای ساخت تراشه‌های ۵ نانومتری، اگرچه از نظر فنی ممکن است، اما چالش‌های بزرگی در زمینه هزینه تولید و مقیاس‌پذیری ایجاد می‌کند. نیاز به نوردهی‌های چندباره برای حک کردن الگوهای ریز روی ویفر سیلیکونی، فرآیند را طولانی و گران می‌کند.

با این حال، تایید ساختار ۵ نانومتری نشان می‌دهد که افزایش قدرت هواوی Kirin 9030 صرفاً تبلیغاتی یا نرم‌افزاری نیست، بلکه حاصل یک جهش سخت‌افزاری واقعی و مهندسی پیچیده است.

نظر شما چیست؟

تراشه کرین ۹۰۳۰ هواوی نمادی از تلاش صنعت تکنولوژی چین برای خودکفایی است. اگرچه مسیر تولید تراشه‌های پیشرفته بدون دستگاه‌های EUV دشوار و پرهزینه است، اما هواوی و SMIC ثابت کردند که با فناوری N+3 توانسته‌اند به کلاس ۵ نانومتری وارد شوند و عملکرد پرچمداران خود را به‌طور محسوسی ارتقا دهند.

گوشی های پرچمدار Mate 80 هواوی با ۲۰ گیگابایت رم، نمایشگر ۸۰۰۰ نیت و تراشه Kirin 9030 معرفی شدند

نظر شما چیست؟ آیا هواوی می‌تواند در آینده‌ای نزدیک، چیپستی در حد چ و اندازه‌ی پرچمداران مدیاتک و کوالکام بسازد؟

اشتراک در
اطلاع از
0 Comments
قدیمی‌ترین
تازه‌ترین بیشترین رأی
بازخورد (Feedback) های اینلاین
مشاهده همه دیدگاه ها
رپورتاژ آگهی پربازده
رپورتاژ آگهی پربازده
سهیل سلیمانی